Acetilacetonatos de itrio/gadolinio/cerio/lantano de subministración de fábrica de China a bo prezo Imaxe destacada

Acetilacetonatos de itrio/gadolinio/cerio/lantano de subministración de fábrica de China con bo prezo

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Os acetilacetonatos de itrio/gadolinio/cerio/lantano son complexos de coordinación derivados da acetilacetona e de sales metálicas, a maioría das veces sales de metais de transición.Estes compostos permiten que moitos ións metálicos sexan solubles en disolventes orgánicos, en contraste coa maioría dos sales metálicos.Isto permite que se utilicen como precursores de catalizadores e reactivos en reaccións que ocorren en fase orgánica na síntese química.

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Descrición

subministración de fábrica de China Ytrio/Gadolinio/Cerio/Lantanoacetilacetonato con bo prezo

Os acetilacetonatos son complexos de coordinación derivados da acetilacetona e de sales metálicas, a maioría das veces sales de metais de transición.Estes compostos permiten que moitos ións metálicos sexan solubles en disolventes orgánicos, en contraste coa maioría dos sales metálicos.Isto permite que se utilicen como precursores de catalizadores e reactivos en reaccións que ocorren en fase orgánica na síntese química.

Propiedades químicas:

subministración de fábrica de China Ytrio/Gadolinio/Cerio/Lantanoacetilacetonato con bo prezo

Acetilacetonato de itrio CAS 15554-47-9

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Ficha técnica/TDS:

Acetilacetonato de itrio/gadolinio/cerio/lantano de subministración de fábrica de China con bo prezo

Aplicación

subministración de fábrica de China Ytrio/Gadolinio/Cerio/Lantanoacetilacetonato con bo prezo

Os acetilacetonatos úsanse con frecuencia como reactivos de desprazamento na espectroscopia de resonancia magnética nuclear (RMN), unha técnica de investigación e análise que aproveita as propiedades magnéticas dos núcleos atómicos para proporcionar información detallada sobre unha substancia química.Ademais, algúns acetilacetonatos poden usarse como precursores para a deposición de películas finas mediante a deposición de vapor químico orgánico metálico (MOCVD) ou a epitaxia de capa atómica (ALE).O acetilacetonato de aluminio utilizouse de xeito MOCVD para depositar películas de óxido de aluminio cristalino, mentres que o ALE pódese usar para depositar o óxido de galio a partir do acetilacetonato de galio.Este último composto tamén se pode usar como precursor do crecemento catalítico das nanoestruturas de nitruro de galio.